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      產(chǎn)品分類(lèi)

      PRODUCT CENTER

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      產(chǎn)品資料

      化學(xué)氣相沉積爐

      如果您對該產(chǎn)品感興趣的話(huà),可以
      產(chǎn)品名稱(chēng): 化學(xué)氣相沉積爐
      產(chǎn)品型號: HTT-CVD
      產(chǎn)品展商: 其它品牌
      產(chǎn)品文檔: 無(wú)相關(guān)文檔

      簡(jiǎn)單介紹

      CVD化學(xué)氣相沉積爐由開(kāi)啟式單(雙)溫區管式爐、高真空分子泵系統、壓強控制儀及多通道高精度數字質(zhì)量流量控制系統組成。CVD化學(xué)氣相沉積爐可實(shí)現真空達0.001Pa混合氣體化學(xué)氣相沉積和擴散試驗。


      化學(xué)氣相沉積爐  的詳細介紹

      主要功能和特點(diǎn)

      1、高真空系統由雙級旋片真空泵和分子泵組成,*高真空可達0.0001Pa;

      2、可配合壓強控制儀控制氣體壓力實(shí)現負壓的精準控制;

      3、數字質(zhì)量流量控制系統是由多路質(zhì)量流量計,流量顯示儀等組成,實(shí)現氣體的流量的精密測量和控制;每條氣體管路均配備高壓逆止閥,保證系統的**性和連續均勻性。

      4、采用KF快速法蘭密封,裝卸方便快捷;管路采用世界*Swagelok卡套連接,不漏氣;

      5、超溫、過(guò)壓時(shí),自動(dòng)切斷加熱電源及流量計進(jìn)氣,使用**可靠。

      主要用途

      高校、科研院所、工礦企業(yè)做高溫氣氛燒結、氣氛還原、CVD/CVI實(shí)驗,特別適用于真空鍍膜、納米薄膜材料制備、納米線(xiàn)生長(cháng)、電池材料干燥燒結等場(chǎng)所。

      主要技術(shù)參數:

      SKGL-1200

      控溫方式

      采用人工智能調節技術(shù),具有PID調節、自整定功能,并可編制30段升降溫程序。

      加熱元件

      0Cr27Al7Mo2

      工作電源

      AC220V    50HZ/60HZ

      額定功率

      4KW

      爐管尺寸

      Φ60/Φ80/Φ100*1000mm

      工作溫度

      1150

      *高溫度

      1200

      恒溫精度

      ±1

      加熱區長(cháng)度

      440mm220mm/220mm

      升溫速度

      20/min

      密封方式

      不銹鋼快速法蘭擠壓密封

      ZK-F

      真空范圍

      0.1-0.001Pa

      極限真空

      4.0*10^-4Pa

      產(chǎn)品配置

      雙級旋片真空泵+分子泵

      測量方式

      復合真空計

      真空規管

      電阻規+電離規

      冷卻方式

      風(fēng)冷

      工作電源

      AC220V 50/60HZ

      抽速

      110L/S

      ZDFC-Ⅲ

      測量范圍

      51*10^-5 Pa

      穩壓(真空)范圍

      15*10^-3Pa

      壓力(真空)穩定精度)

      ±3%

      控制范圍

      2.5*10^31*10^-4 Pa

      控制精度

      ± 1%

      HQZ-Ⅲ

      控制方式

      D07-7K質(zhì)量流量計,D08流量顯示儀

      流量規格

      0500SCCM /01SLM,(可根據客戶(hù)需要配置)

      線(xiàn)性

      ±1%F.S

      準確度

      ±1%F.S

      重復精度

      ±0.2%F.S.

      響應時(shí)間

      2sec

      耐壓

      3MPa

      氣路通道

      3通道(根據客戶(hù)需求)

      針閥

      316不銹鋼

      管道

      Φ6mm不銹鋼管

      接口

      SwagelokΦ6mm

       

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